フォトマスク用石英基板
用途：
TGV、DOE、PLC、AWG など基板
特長：
極めて低い金属不純物含有量
高い屈折率均一性
気泡なし
高い表面光沢・平滑性
OH含有量 <50 ppm
高い屈折率均一性
気泡なし
高い表面光沢・平滑性
OH含有量 <50 ppm
光学的性質
| 型番 | OH（ppm） | 応力二重屈折（nm/cm） | ストリーク等級 | 透過率 | 内部透過率 | 推奨波長域 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| TSM-6025I | <250 | <10 | 1D | >90.2%@365nm | >99.8%@193/248/365nm | 紫外領域・可視領域 |
| TSM-6025K | <250 | <2 | 1D | >90.2%@248nm | >99.8%@193/248/365nm | KrF |
| TSM-6025A | <50 | <1 | 3D | >90.2%@193nm | >99.8%@193/248/365nm | ArF |
加工・検査能力
半導体マスク基板用石英基板の加工・検査対応可能
- ワイヤソー加工対応
- CNC精密加工（高精度切削加工対応）
- 両面研磨・両面ポリッシュ対応
- 超音波洗浄・ディープクリーニング対応
- 欠陥検査対応
平面度測定（AFM使用）対応
表面粗さ測定（測定範囲：10 μm × 10 μm）
| グレード | I-line | KrF | ArF |
|---|---|---|---|
| Front (um) | ≤2 | ≤1 | ≤0.5 |
| Back (um) | ≤3 | ≤2 | ≤1 |
| TTV (um) | ≤2 | ≤2 | ≤1 |
| Rms (nm) Front/Back |
≤0.2 | ≤0.2 | ≤0.15 |